चीन में हाइड्रोफ्लोरिक एसिड की सफाई के लिए पहला द्रव्यमान उत्पादन उपकरण सफलतापूर्वक पैनल फैक्ट्री में स्थानांतरित कर दिया गया था

हाइड्रोफ्लोरिक एसिड सफाई प्रदर्शन प्रक्रिया में एक महत्वपूर्ण लिंक है। इसका सफाई प्रभाव सीधे डिवाइस संरचना के अंतिम प्रदर्शन, दक्षता और स्थिरता को प्रभावित करता है, और अंतिम उत्पाद की उपज दर से संबंधित है। हाइड्रोफ्लोरिक एसिड की सफाई न केवल सक्रिय परत की सतह पर अशुद्धियों को हटा देती है, बल्कि सतह को भी पारित करती है, जिससे इंटरफ़ेस अशुद्धियों की सोखने की क्षमता कम हो जाती है। सतह की स्वच्छता के लिए आवश्यकताएं बहुत सख्त हैं और सैद्धांतिक रूप से किसी भी कण, धातु आयनों या कार्बनिक चिपकने की उपस्थिति की अनुमति नहीं देता है। संलग्न, जल वाष्प और ऑक्साइड परतों को पोस्ट-प्रोसेसिंग प्रक्रिया की प्रक्रिया विश्वसनीयता सुनिश्चित करने के लिए सतह पर परमाणु-स्तरीय सपाटता की आवश्यकता होती है।