चीन में हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड सफाई के लिए पहला बड़े पैमाने पर उत्पादन उपकरण सफलतापूर्वक पैनल कारखाने में ले जाया गया

हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड सफाई प्रदर्शन प्रक्रिया में एक महत्वपूर्ण कड़ी है। इसका सफाई प्रभाव सीधे डिवाइस संरचना के अंतिम प्रदर्शन, दक्षता और स्थिरता को प्रभावित करता है, और अंतिम उत्पाद की उपज दर से संबंधित है। हाइड्रोफ्लोरोइक एसिड की सफाई न केवल सक्रिय परत की सतह पर मौजूद अशुद्धियों को दूर करती है बल्कि सतह को निष्क्रिय भी करती है, जिससे इंटरफ़ेस अशुद्धियों की सोखने की क्षमता कम हो जाती है। सतह की सफाई की आवश्यकताएं बहुत सख्त हैं और सैद्धांतिक रूप से किसी भी कण, धातु आयन या कार्बनिक चिपकने की उपस्थिति की अनुमति नहीं देती है। संलग्न, जल वाष्प और ऑक्साइड परतों को प्रसंस्करण के बाद की प्रक्रिया की विश्वसनीयता सुनिश्चित करने के लिए सतह पर परमाणु-स्तर की समतलता की आवश्यकता होती है।